рощин в м технология материалов микро опто и наноэлектроники ч 2
Рощин В. Технология материалов микро-, опто- и наноэлектроники: учебное пособие. ч.2 / Рощин В. (Бином)
409 Руб.
Рощин В. Технология материалов микро-, опто- и наноэлектроники: учебное пособие. ч.2 / Рощин В. (Бином)
409 Руб.
Введение в процессы интегральных микро- и нанотехнологий. В 2 томах. Том 2. Технологические аспекты
481 Руб.
Зебрев Геннадий Иванович Физические основы кремниевой наноэлектроники. Учебное пособие для вузов
448 Руб.
Орликовский А. А., Валиев К. А., Кокин А. А. Труды ФТИАН. Том 20. Квантовые компьютеры, микро- и наноэлектроника. Физика, технология, диагностика
389 Руб.
Таперо К., Улимов В., Членов А. Радиационные эффекты в кремниевых интегральных схемах космического применения
644 Руб.
Таперо Константин Иванович, Улимов Виктор Николаевич, Членов Александр Михайлович Радиационные эффекты в кремниевых интегральных схемах космического применения
744 Руб.
Таперо К., Улимов В., Членов А. Радиационные эффекты в кремниевых интегральных схемах космического применения
644 Руб.
Орликовский А. А., Кокин А. А., Митропольский Ю. И. Квантовые компьютеры, микро-и наноэлектроника. Физика, технология, диагностика. Труды ФТИАН. Том 25
767 Руб.
Игнатов А.Н. Химико-технологические основы микро- и наноэлектроники: учебное пособие
1989 Руб.
Игнатов Александр Николаевич, Фадеева Наталья Евгеньевна, Величко Александр Андреевич Химико-технологические основы микро- и наноэлектроники. Учебное пособие
1357 Руб.
Описание:
Разделение данной книги на 2 тома обусловлено большим объемом материала, касающегося интегральных микро- и нанотехнологий; при этом каждый из томов представляет вполне cамостоятельный интерес. Во втором томе изложены технологические и конструктивные основы и особенности методов формирования и "сухого" травления на поверхности подложки тонких слоев и локальных областей проводящих, диэлектрических и полупроводниковых материалов в условиях уменьшения размеров элементов до нанометрового диапазона для интегральных технологий микро- и наноэлектроники, оптоэлектроники, микросистемной техники. Рассматриваются эпитаксиальные процессы, процессы вакуум-термического и ионно-плазменного осаждения, ионного, ионно-химического и плазмохимического травления, термического окисления, методы легирования термической диффузией и ионной имплантацией, а также процессы фотолитографии. Для студентов и аспирантов высших учебных заведений, специализирующихся в области микро- и наноэлектроники, микроэлектромеханических систем, физики твердого тела, материаловедения. Книга может быть полезна инженерно-техническим работникам соответствующих областей.